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szzzn |
Aluminum Oxide（Al₂O₃），即氧化铝靶材，作为一种的高纯溅射靶材材料，在薄膜制备领域展现出了其特的物理特性和广泛的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业。所生产氧化物靶材 材料如下：
OXIDES 氧化物 | |
Aluminum Oxide (Al2O3) | Magnesium Oxide (MgO) |
Antimony Oxide (Sb2O3) | Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3) |
Barium Titanate (BaTiO3) | Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3) |
Bismuth Oxide (Bi2O3) | Molybdenum Oxide (MoO3) |
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11) | Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4) |
Cerium Oxide (CeO2) | Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2） |
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4) | Niobium Pentoxide (Nb2O5) |
Chromium Oxide (Cr2O3) | Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3 |
Chromium Oxide (Eu doped) | Rare Earth Oxides (La2O3) |
Gallium Oxide (Ga2O3) | Silicon Dioxide (SiO2) |
Germanium Oxide (GeO3) | Silicon Monoxide (SiO) |
Hafnium Oxide (HfO2) | Tantalum Pentoxide (Ta2O5) |
Indium Oxide (In2O3) | Tin Oxide (SnO2) |
Indium-Tin Oxide (ITO) | Titanium Dioxide (TiO2) |
Iron Oxide (Fe2O3) | Tungsten Oxide (WO3) |
Lanthanum Oxide(La2O3) | Yttrium Oxide (Y2O3) |
Lead Titanate(PbTiO3) | Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12) |
Lead Zirconate (ZrPbO3) | Zinc Oxide (ZnO) |
Lithium Niobate (LiNbO3) | Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3) |
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2) | Zirconium Oxide (ZrO2) |
一、氧化物(Al2O3)靶材特性：
1、，从纯度方面来看，氧化铝靶材的纯度通常达到99.99%以上，甚至可达99.999%的纯度。这种高纯度确保了靶材在溅射过程中能够提供稳定且纯净的溅射源，从而制备出质量的薄膜。高纯度还减少了杂质对薄膜性能的影响，如电学性能、光学性能及化学稳定性等，使得氧化铝薄膜在多个领域中的应用更加可靠和。
2、在密度方面，氧化铝靶材的密度约为3.97~4.0g/cm³（真密度），这为其在溅射过程中提供了良好的稳定性。高密度使得靶材在溅射时能够保持均匀的溅射速率和薄膜厚度，从而提高了薄膜的均匀性和一致性。此外，高密度还赋予了氧化铝薄膜的机械性能和耐磨性，使其在需要高硬度、高耐磨性的应用中表现出色。
3、熔点方面，氧化铝的熔点高达2054°C，这一特性使得氧化铝靶材能够在高温环境下保持稳定，不易熔化或变形。这种高温稳定性对于需要高温溅射或沉积工艺的应用场景至关重要，如化学气相沉积（CVD）等高温工艺中。同时，高熔点也确保了氧化铝薄膜在高温环境下的稳定性和耐久性，使得其在航空航天、能源存储等极端环境中的应用更加可靠。
三、行业应用：
氧化铝靶材展现出了广泛的应用优势。在半导体领域，氧化铝薄膜作为介电层、钝化层或绝缘层，能够显著提高器件的性能和可靠性。其的绝缘性能和稳定的化学性质，使得氧化铝薄膜成为制造电容器、晶体管等微电子器件的理想材料。此外，在光学领域，氧化铝薄膜被广泛应用于抗反射涂层、高反射涂层和透明导电膜等光学元件的制备中，提高了产品的光学性能和美观度。在装饰保护领域，氧化铝薄膜因其良好的耐磨性和化学稳定性，被用作家具、建筑材料等表面的装饰和保护涂层，延长了产品的使用寿命。
综上所述，Aluminum Oxide（Al₂O₃）氧化铝靶材以其高纯度、高密度和高熔点等特性，在半导体、光学、装饰保护等多个领域中展现出了广泛的应用优势和的市场潜力。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，氧化铝靶材必将在更多领域中发挥重要作用。
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