苏州中之纳半导体科技有限公司

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钐靶Sm溅射镀膜蒸发镀膜半导体材料高纯度99.99%背板绑定

发布者:殷丽丽 | 来源:苏州中之纳半导体科技有限公司发布时间:2025-03-19
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szzzn
   

高纯度Sm钐靶材

高纯度Sm钐靶材作为一种的磁控溅射靶材材料,在现代材料科学与技术领域扮演着举足轻重的角色。钐(Sm),作为稀土元素的一员,具有特的物理和化学性质,使得高纯度Sm钐靶材在磁控溅射技术中展现出的性能和广泛的应用前景。以下是对高纯度Sm钐靶材的详细介绍,包括其基本特性、物理性能以及行业应用优势。

PRECIOUS METALS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒

Gold (Au)

Palladium (Pd)

Silver (Ag)

Platinum (Pt)

Gold Arsenic (AuAs)

Rhenium (Re)

Gold Tin (AuSn)

Rhodium (Rh)

Iridium (Ir)

Ruthenium (Ru)

Osmium (Os)


我司专注研发与生产,铸就行业。公司生产稀贵金属材料如下:

一、基本介绍

高纯度Sm钐靶材是由高纯度的钐金属经过精密加工制成的溅射靶材。钐是一种银白色的金属,具有较低的密度(约7.353g/cm³)和高熔点(1072℃),同时其沸点也相对较高,达到了1791℃。这些物理特性使得Sm钐靶材在高温溅射过程中能够保持稳定,不易发生形变或熔化,从而确保了溅射过程的连续性和稳定性。

二、物理性能

1、纯度高纯度Sm钐靶材的纯度是衡量其质量的关键指标。一般来说,高纯度Sm钐靶材的纯度可以达到99.9%甚至更高。高纯度意味着靶材中杂质的含量极低,这有助于减少溅射过程中杂质的引入,提高溅射薄膜的纯净度和性能。

2、密度Sm钐靶材的密度适中,约为7.353g/cm³。这一密度特性使得靶材在溅射过程中能够保持良好的机械稳定性和溅射效率。同时,适中的密度也有助于控制溅射薄膜的厚度和均匀性。

3、熔点与沸点Sm钐靶材的高熔点(1072℃)和高沸点(1791℃)是其能够在高温溅射环境中保持稳定的关键因素。这一特性使得Sm钐靶材在制备高温稳定性要求较高的薄膜时具有显著优势。

4、化学成份Sm钐靶材的主要化学成份是钐(Sm),其化学性质相对稳定,但在潮湿环境中易氧化。因此,在制备和使用过程中需要严格控制环境湿度,以避免靶材的氧化和性能下降。

三、行业应用优势

1、电子与半导体行业高纯度Sm钐靶材在电子与半导体行业中具有广泛的应用。它可以用于制备的磁阻器件、磁传感器以及磁存储介质等。Sm钐靶材的溅射薄膜具有高磁导率、低磁滞损耗和良好的稳定性,能够满足电子器件对磁性材料的需求。

2、光学与光电子行业在光学与光电子行业中,Sm钐靶材可用于制备光学薄膜和光电子器件。其溅射薄膜具有的光学性能和稳定性,可以用于制造光学滤波器、反射镜以及光波导等器件。此外,Sm钐靶材还可以用于制备的太阳能电池中的透明导电薄膜,提高太阳能电池的光电转换效率。

3、磁性材料行业Sm钐靶材在磁性材料行业中也具有重要的应用。它可以用于制备永磁体、磁记录材料等。高纯度Sm钐靶材的溅射薄膜具有高的矫顽力和磁能积,使得制备出的永磁体具有的磁性能和稳定性。

4、其他领域此外,高纯度Sm钐靶材还可以用于制备玻璃、陶瓷以及复合材料等领域中的功能材料。Sm钐靶材的溅射薄膜能够赋予这些材料的磁性能、光学性能和热稳定性,从而提高其整体性能和应用范围。

综上所述,高纯度Sm钐靶材以其特的物理性能和广泛的应用前景,在现代材料科学与技术领域中展现出了的潜力和价值。随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展,高纯度Sm钐靶材的性能将进一步提升,其应用也将更加广泛和深入。


苏州中之纳半导体科技有限公司
联系人 殷丽丽
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传真 地址 江苏省苏州市姑苏区平江街道仓街140号6幢221室
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